[테크홀릭] 이재용 부회장은 2일 새해 첫 행선지로 세계 최초로 3나노 공정을 개발한 반도체 화성사업장 내에 있는 반도체연구소를 찾아, 삼성전자가 세계 최초로 개발한 3나노 공정기술을 보고 받고 DS부문 사장단과 함께 차세대 반도체 전략을 논의했다. 이 자리에는 김기남 부회장, 정은승 사장, 진교영 사장, 강인엽 사장, 강호규 반도체 연구소장 부사장 등 반도체 핵심 인력이 참석했다.

이재용 부회장이 새해 첫 경영 행보를 반도체 개발 현장에서 시작한 것은 메모리에 이어 시스템 반도체 분야에서도 세계 1위가 되겠다는 미래 비전을 다시 한번 되새기고 목표를 달성하겠다는 의지를 다지기 위한 것으로 풀이된다.

반도체 미세화의 한계를 극복할 수 있는 차세대 기술인 'GAA(Gate- All-Around)'를 적용한 3나노 반도체는 최근 공정 개발을 완료한 5나노 제품에 비해 칩 면적을 약 35% 이상 줄일 수 있다. 또 소비전력을 50% 줄이면서 처리속도는 30% 향상시킬 수 있다.

이 자리에서 이재용 부회장은 "과거의 실적이 미래의 성공을 보장해주지 않는다"며 "역사는 기다리는 것이 아니라 만들어가는 것이다. 잘못된 관행과 사고는 과감히 폐기하고 새로운 미래를 개척해 나가자"고 당부했다.

새해 첫 근무일인 만큼 이 부회장은 기업의 사회적 책임도 강조하는 것도 잊지 않았다. 이 부회장은 "우리 이웃, 우리 사회와 같이 나누고 함께 성장하는 것이 우리의 사명이자 100년 기업에 이르는 길임을 명심하자"고 강조했다.

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이재용 삼성전자 부회장이 지난해 8월26일 충남 아산에 있는 삼성디스플레이 사업장을 방문해 중소형 OLED 디스플레이의 기능에 대한 설명을 듣고 있다.(사진=삼성전자)

이승필 기자  thtower1@techholic.co.kr

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