삼성전자가 올해 4분기 약 13조3,000억원의 시설 투자를 단행한다.

31일 삼성전자는 2017년 시설 투자 계획 발표를 통해 올해 총 46조2,000억원 수준의 투자를 예정하고 있다고 밝혔다.

이는 지난해의 25조5,000억원 대비 20조7,000억원(55.1%)이나 증가한 금액으로 반도체 사업에 29조5,000억원, 디스플레이 사업에 14조1,000억원이 투입된다.

3분기까지의 누적 투자액은 32조9,000억원으로 3분기에만 반도체 7조2,000억원, 디스플레이 2조7,000억원 등 총 10조4,000억원이 시설투자에 쓰였다.

먼저 반도체에서 메모리 분야에 V낸드 수요 증가 대응을 위한 평택 1라인 증설과 D램 공정전환 투자가 진행되고 있으며, 파운드리 분야에 10나노 공정 생산라인 증설이 이뤄지고 있다.

디스플레이의 경우 플렉서블 OLED 패널 고객 수요에 대응하기 위한 생산라인 증설 투자가 진행 중이다.

4분기는 3분기까지의 분기 평균 투자액보다 많은 13조3,000억원의 뭉칫돈이 준비돼 있다. 삼성전자는 이중 상당부분이 반도체 사업의 신규 부지 조성, 클린룸 공사 등 인프라 구축에 활용될 것이라고 설명했다.

김재운 기자  cloudkim@techholic.co.kr

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